新兴处理法（厌氧/碳浸渍/乳酸等）需要单独建模吗？
结论：不需要。 现有四种处理法（日晒 / 水洗 / 湿刨法 / 蜜处理）可以覆盖 主流的新兴处理法，不建议为它们各自建立独立参数行。
为什么不加
- 没有权威参数数据。 厌氧、二氧化碳浸渍、乳酸、酵母、双重发酵、热冲击、 冷浸渍、碳浸渍日晒等都是近年实验性、小批量的工艺，没有任何行业权威或 Kaffelogic 官方发布过对应的曲线参数表。同一处理法（例如都叫「厌氧」） 不同庄园 / 批次的差异，可能比跨处理法还大——固定参数反而会误导。
- 烘焙行为由「基底处理法」决定。 对曲线真正起作用的物理因素——是否保留 果胶（糖分）、豆体结构 / 密度、含水率与活性——基本由基底处理法决定； 发酵工艺主要改变风味方向（酒香、果香、酸质），对热行为的系统性影响远 小于基底。
映射表
| 新处理法 | 归类到 | 依据 |
|---|---|---|
| 厌氧发酵 Anaerobic | 看基底：日晒→natural，蜜→honey，水洗→washed | 发酵只改风味，热行为跟随基底 |
| 二氧化碳浸渍 Carbonic Maceration | honey（保留果胶）或 washed | 带果胶发酵→偏蜜处理 |
| 乳酸发酵 Lactic | washed（多为水洗底） | 乳酸菌发酵豆多为水洗处理 |
| 酵母发酵 Yeast Fermentation | 跟随基底（多 washed / honey） | 同厌氧逻辑 |
| 双重发酵 Double Fermentation | 跟随基底，发酵感更强 | 两次发酵，芳香更浓 |
| 热冲击 Thermal Shock | 跟随基底 | 温度变化主要影响风味，烘焙行为同基底 |
| 冷浸渍 Cold Maceration | 跟随基底（多 washed / honey） | 低温慢发酵，酸质清甜 |
| 碳浸渍日晒 Carbonic Natural | natural（日晒底）或 honey | 日晒 + 碳浸渍→偏日晒 / 蜜处理 |
现有机制如何覆盖
- 拿到「厌氧蜜处理」选蜜处理即可（已用哥伦比亚粉波旁厌氧蜜处理真实曲线 校准过 fc）；
- 批次差异用「自定义调整」微调（一爆 / 预热 / 干燥 / 中段 / 发展 / 末端 / 风扇偏移）；
- 产地特征表还会叠加产区的修正。